河南專業(yè)BOE蝕刻液商家

    該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為總質量的％、％。實施例2本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為三乙二醇乙醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質量的％、％。實施例3本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為三甘醇單丁醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質量的％、％。實施例4本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為二乙二醇單甲醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為總質量的％、％。實施例5本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。蘇州博洋生產(chǎn)銷售BOE蝕刻液。河南專業(yè)BOE蝕刻液商家

    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術：氮化硅是一種具有很高的化學穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時，晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術實現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。上海什么是BOE蝕刻液銷售廠家蘇州博洋化學股份有限公司提供專業(yè)蝕刻液。

    ósitosapareddecubetoserácomomínimode50centímetrosyentretanquesserááóóónexteriordelosdepósitosseestudiarádeformaespecialenloscasosdeexistenciadeaguasselenitosas,corrosivasuotroselementosagresivosenlazonaadyacentealenterramientoycomomínimo,enmedionoagresivo,elrevestimientodeberá:1.oTenerunespesormí.oResistiralensayode15kVdetensióndeperforación,.oónseaplicarásobretodalasuperficieexterior,ósitosselimpiarádeaceites,grasas,etc.,aplicándoseuntratamientodecepilladomanualomecánicoparaconseguirquelasuperficiepresenteunaspectodebrillometálico,ónpasivainterior,á?ósitosdeaceroinoxidablenoseránecesarialaproteccióáunaorejetaenchapadeacerodecincomilímetrosdeespesorcomomínimo,soldadaalcuellodelabocadehombreparalaconexión,mediantetornilloosoldadura?CADWELD?,delalíneadetierraoproteccióncatódica;launiónseprotegeráyaislarámediantepastasepoxíálacontinuidadeléctricadelatapadelabocadehombre。

    這是除去固體顆粒、電子流、水、或者或多或少具有極性的油脂污染的要求。在精細清洗中，經(jīng)常存在裝有凹槽、肋條或盲孔的非常復雜的部件，必須用溶劑對其進行潤濕，以使溶劑在這些難洗位置發(fā)揮作用。氟化溶劑來自提供表面的可能性的潤濕的溶劑類型，其中，所述表面的可能性的潤濕以非常低的表面張力表示(例如，相對于，HCFC141b為)。高潤濕的另一優(yōu)點是得到基底的較快干燥。在幾乎相同的分子量下，氟化溶劑具有較低的沸點和較高的蒸氣壓。因此，HCFC141b在32°C下沸騰而氯仿在61°C下沸騰。這兩種性質(低沸點和高蒸氣壓)有利于這些溶劑在利用蒸氣相操作的常規(guī)工業(yè)機器中的應用，使得能夠進行部件的漂洗和干燥，而且使得被連續(xù)蒸餾的溶劑能夠再生。這些機器裝有用于通過冷凝而使蒸氣在盤管上冷卻的大功率(heavy-duty)系統(tǒng)，這些機器的操作方法使得所用高蒸氣壓的缺點小化。工業(yè)家們期望可用于他們的現(xiàn)有機器存貨的替代解決方案。此外，氫氟烴地用于制冷和傳熱過程。本發(fā)明提供具有低GWP且具有可生物降解的優(yōu)點的組合物。根據(jù)本發(fā)明的組合物含甲基四氫呋喃和至少一種式C4F90R的九氟丁基烷基醚，其中R具有14個碳原子的線型或支化的飽和烷基鏈。有利地。BOE蝕刻液的比例分為哪些？

    形成氣液混合體，從擴散管22排出又進入到再生液調配缸3。電解再生某線路板生產(chǎn)線蝕刻廢液，蝕刻廢液量1000m3/d，相比沒有使用本實用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，能耗節(jié)約40％，節(jié)約使用藥品100kg/d，經(jīng)濟效益提高30％。作為本實施例的一個示例，電解槽1的陽極可選用石墨電極，陰極可選用鈦或鈦合金板狀電極，電解槽1中陰極與陽極之間的距離為55mm，電解槽1的電流密度為300a/m2。與實施例相結合，圖2示出了本實用新型第二實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結構，在實施例的基礎上，第二實施例進一步包括曝氣裝置5，曝氣裝置5通過管道深入到再生液調配缸3的液體中，用于向再生液調配缸3中的電解后液輸送氣體以進行攪拌，以提高整個系統(tǒng)的工作效率。進一步地，與上述、第二實施例相結合，酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還可以包括一后續(xù)處理系統(tǒng)，用于向經(jīng)過再生液調配缸3處理過的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻，然后再打入到子液桶，實現(xiàn)再生液循環(huán)利用。以上所述為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。BOE蝕刻液，讓您的產(chǎn)品更出色。河南哪些新型BOE蝕刻液主要作用

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    可通過蒸發(fā)或蒸餾或者通過對比給定溫度下的泡點或的蒸氣壓來實施共沸型化合物的確定。在工業(yè)應用的情況下使用共沸物是特別有利的，以使組合物再生，例如當其飽和有污染物的時候。簡單蒸餾可回收初的共沸組合物，而沒有各組分的任何分餾。而且，2-甲基四氫呋喃(2-MeTHF)具有得自可再生原料(例如得自纖維素材料的糠醛)的優(yōu)點。因此，半纖維素多糖是含有5個碳原子的基于糖的聚合物。當在硫酸的存在下加熱半纖維素時，得到戊糖(含有5個碳原子的糖)，例如木糖。當進行木糖的熱脫水時，該木糖轉化為糠醛。除了低的GWP和它們的可生物降解性之外，根據(jù)本發(fā)明的一些組合物是不可燃的(根據(jù)ASTMD3828標準，閉杯閃點高于55°C)并且特別適合作為清洗溶劑或作為用于加熱和冷卻應用的制冷劑。它們也可用作發(fā)泡劑。實驗部分實施例1通過使用沸點測定技術測量液體混合物的沸點。首先，將適量的九氟丁基甲基醚裝料到沸點測定儀中，然后，使其沸騰。在達到平衡狀態(tài)之后，記錄在大氣壓下的沸點。然后，將甲基四氫呋喃的等分試樣引入到所述沸點測定儀中并且在已達到平衡狀態(tài)之后再次記錄溫度。表I給出九氟丁基甲基醚和甲基四氫呋喃的各種混合物在。河南專業(yè)BOE蝕刻液商家