中山硅光電二極管廠家

來源: 發布時間:2025-06-21

深圳市世華高半導體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設在深圳,主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地,負責光電器件的制造。硅光電二極管是當前普遍應用的半導體光電二極管。下面我們談談2CU和2DU兩種類型硅光電二極管的種類、構造以及應用上的一些問題。種類與構造一、2CU型硅光電二極管:2CU型硅光電二極管是用N型硅單晶制作的,根據外形尺寸的大小它又可分2CU-1-,2CU-2-,2CU-3-等型號,其中2CU-1-與2CU-2-體積較大,2CU-3-稍小些(見圖1(a))。這種類型的光電二極管多用帶透鏡窗口的金屬管殼封裝,下端有正、負兩個電極引線,它們分別與管心中的光敏面(P型層)和N型襯底相連。光線從窗入后經透鏡聚焦在管心上,由于這種聚光作用增強了光照強度,從而可以產生較大的光電流。二、2DU型硅光電二極管:2DU型硅光電二極管是用P型硅單晶制作的,從外形上分有2DUA,2DUB等類型,其中2DUA型管子體積較小些(見圖1(b))。2DU型硅光電二極管目前多采用陶瓷樹脂封裝,入射光的窗口不帶透鏡。這類管子引線共有三條,分別稱作前極、后極、環極(見圖1(b))。前極即光敏區(N型區)的引線;后極為襯底(P型區)的引線。硅光電二極管電路圖就找世華高!中山硅光電二極管廠家

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具體實施方式下面結合實施例對本發明做進一步詳細描述,所述是對本發明的解釋而不是限定,一種高速高響應度的硅基光電二極管,包括背面設有背面電極108的襯底107;襯底107正面依次設有高反層(109、外延層101、注入層、氧化硅層、氮化硅層和正面金屬電極106;所述的高反層109上開設有用于形成電流路徑的刻蝕孔,以及與正面金屬電極106相對應的刻蝕區;所述的注入層包括保護環102以及設在其內的有源區103;所述的正面金屬電極106還貫穿氧化硅層、氮化硅層與有源區103相連接。進一步的,所述的襯底107為電阻率20~100為ohm·cm的硅基襯底,襯底背面直接做金屬化處理形成背面電極108。所述的外延層101淀積在高反層109上;在外延層101上分別以n型離子注入形成保護環102,以p型離子注入形成有源區103;所述的氧化硅層為熱氧化生成sio2層104,所述的氮化硅層為淀積生長的si3n4層105;所述的正面金屬電極106是在濺射后經刻蝕成形。參見圖2所示的光電二極管等效電路示意圖,rsh為光電二極管關斷阻抗,rsh=∞,rs為光電二極管串聯電阻。深圳市世華高半導體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設在深圳,主要負責研發和銷售工作。杭州硅光電硅光電二極管參數世華高硅光電二極管攜手暢享智能體驗。

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通過適當減小耗盡區寬度和減小擴散區電阻率,耗盡區寬度減小導致響應度的降低,再通過增加高反層使得光子在較薄的耗盡區中二次吸收來補償,以減小耗盡區變薄對光響應度的影響(參見圖3);高反層的形成使得器件保持對長波響應度的同時,降低響應時間;進一步,通過在高反層上刻孔形成均勻的電流路徑同時獲得高的響應速度(參見圖4);由于擴散區(耗盡區以外的區域)材料電阻率很低,擴散區阻抗很小。深圳市世華高半導體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設在深圳,主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地,負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展,世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構,分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。深圳市世華高半導體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設在深圳,主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地,負責光電器件的制造。

反應結束,取出fto電極,水洗3次,60℃下真空干燥8h;干燥后,將薄膜放入管式爐內,氮氣保護條件下煅燒一定時間,即可得sr摻雜batio3/znte光電極。地,步驟1所述乙酸鋇的濃度為5-100mmol/l,乙酸鍶的濃度為5-100ummol/l,鈦酸四丁酯的濃度與乙酸鋇一致。地,步驟1所述乙酸、乙醇和水的體積比為1:3:3-1:10:10。地,步驟2所述靜電紡絲工藝參數為:注射器推進速度1-5mm/h。深圳市世華高半導體有限公司成立于2004年,總部設在深圳,主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地,負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展,世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構,分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。紡絲電壓10-30kv,接收距離5-10cm,滾筒轉速200-500r/min。地,步驟2所述馬弗爐中煅燒溫度為400-700℃,煅燒時間為1-4h。地,步驟3所述硝酸鋅、碲酸鈉和硼氫化鈉的濃度比為10:10:1-1:1:1。地,步驟3所述水熱溫度為150-220℃。濱松光電二極管選世華高半導體。

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本發明具有以下有益的技術效果:本發明提供的高速高響應度的硅基光電二極管,通過適當減小耗盡區寬度和減小擴散區電阻率,耗盡區寬度減小導致響應度的降低,本發明通過增加高反層使得光子在耗盡區中二次吸收來補償;高反層的形成使得器件保持對長波響應度的同時,降低響應時間;由于擴散區(耗盡區以外的區域)材料電阻率很低,擴散區阻抗很小,因此擴散時間很短;從而實現硅基光電二極管高響應度與高響應速度同時提升。本發明提供的高速高響應度的硅基光電二極管,由于通過低阻材料降低了擴散區電阻,縮短了擴散時間;而高反層的設置提高了長波的吸收效率,降低了耗盡區的物理厚度,縮短了漂移時間,并且在其上開孔減小了擴散區的阻抗;襯底采用低電阻率材料,背面不用進行減薄注入,直接背面金屬化形成背面電極,避免了加工過程中碎片的情況。附圖說明圖1為本發明的結構圖示意圖;圖2為本發明的等效電路示意圖;圖3為本發明的高反層原理示意圖;圖4為多孔結構高反層的示意圖;圖5-1~圖5-7分別為本發明的逐層制備示意圖。圖6為本發明的硅基光電二極管的響應度測試曲線;圖7為本發明的硅基光電二極管的頻率特性測試曲線。中山硅光電二極管廠家

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