EVG ? 150光刻膠處理系統分配選項: 各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000 cP的粘度 液體底漆/預濕/洗盤 去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR) 恒壓分配系統/注射器分配系統 電阻分配泵具有流量監控功能 可...
在鍵合過程中,將兩個組件的表面弄平并徹底清潔以確保它們之間的緊密接觸。然后它們被夾在兩個電極之間,加熱至752-932℃(華氏400-500攝氏度),和幾百到千伏的電勢被施加,使得負電極,這就是所謂的陰極,是在接觸在玻璃中,正極(陽極)與硅接觸。玻璃中帶正電的...
LFS控制單元上的每個D-Sub15插座都有4個對應于AVI元件的開關輸出,這些AVI元件以任意4個矩形方向(即平行或直角)放置,不允許其他方向。 面向LFS傳感器的藍色LED直立。將***個AVI元件連接到后面板上的12個D-Sub15插座中的任何...
焊使用工具將導線施加到微芯片上時對其產生壓力。將導線牢固地固定到位后,將超聲波能量施加到表面上,并在多個區域中建立牢固的結合。楔形鍵合所需的時間幾乎是類似球形鍵合所需時間的兩倍,但它也被認為是更穩定的連接,并且可以用鋁或其他幾種合金和金屬來完成。 ...
EVG101光刻膠處理系統的技術數據: 可用模塊:旋涂/ OmniSpray ? /開發 分配選項: 各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000 cP的粘度; 液體底漆/預濕/洗盤; 去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR); ...
EVG增強對準:全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,大間隙,晶圓平面或紅外對準,在可編程位置自動定位。確保**/佳圖形對比度,并對明場和暗場照明進行程序控制。先進的模式識別算法,自動原點功能,合成對準鍵模式導入和培訓可確保高度可重復的對準結果。 曝光光學:...
AVI 200-XL的隔離始于1,2 Hz,然后迅速增加至超過10Hz的35dB 減少低頻諧振可得到比普通的被動空氣阻尼系統更好的性能 AVI 200-XL系統固有的剛性賦予其出色的方向性和位置穩定性 AVI 200-XL的出色性能包括所...
EVG ? 120--光刻膠自動化處理系統 EVG ? 120是用于當潔凈室空間有限,需要生產一種緊湊的,節省成本光刻膠處理系統。 新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基板。新一代EVG12...
Abouie M 等人[4]針對金—硅共晶鍵合過程中凹坑對鍵合質量的影響展開研究,提出一種以非晶硅為基材的金—硅共晶鍵合工藝以減少凹坑的形成,但非晶硅的實際應用限制較大。康興華等人[5]加工了簡單的多層硅—硅結構,但不涉及對準問題,實際應用的價值較小。陳穎慧等...
F10-AR 無須處理涂層背面我們探頭設計能抑 制 1.5mm 厚基板 98% 的背面反射,使用更厚的鏡頭抑 制的更多。 就像我們所有的臺式儀器一樣,F10-AR 需要連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 端口上并在數分鐘內即可完成設...
EVG?301單晶圓清洗系統,屬于研發型單晶圓清洗系統。 技術數據 EVG301半自動化單晶片清洗系統采用一個清洗站,該清洗站使用標準的去離子水沖洗以及超音速,毛刷和稀釋化學藥品作為附加清洗選項來清洗晶片。EVG301具有手動加載和預對準功能,是一種多功能的研...
晶圓級封裝是指在將要制造集成電路的晶圓分離成單獨的電路之前,通過在每個電路周圍施加封裝來制造集成電路。由于在部件尺寸以及生產時間和成本方面的優勢,該技術在集成電路行業中迅速流行起來。以此方式制造的組件被認為是芯片級封裝的一種。這意味著其尺寸幾乎與內部電子電...
用晶圓級封裝制造的組件被***用于手機等消費電子產品中。這主要是由于市場對更小,更輕的電子設備的需求,這些電子設備可以以越來越復雜的方式使用。例如,除了簡單的通話外,許多手機還具有多種功能,例如拍照或錄制視頻。晶圓級封裝也已用于多種其他應用中。例如,它們用...
從表面上看,“引線鍵合”似乎只是焊接的另一個術語,但由于涉及更多的變量,因此該過程實際上要復雜得多。為了將各種組件長久地連接在一起,在電子設備上執行引線鍵合過程,但是由于項目的精致性,由于它們的導電性和相對鍵合溫度,通常*應用金,鋁和銅。通過使用球形鍵合或楔形...
F60 系列 包含的內容:集成平臺/光譜儀/光源裝置(不含平臺)4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準真空泵備用燈 型號厚度范圍*波長范圍 F60-t:20nm-70μm 380-1050nm ...
真空系統:9x10-2mbar(標準)和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標準),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質:去離子水(標準),NH4OH和H2O2(蕞/大)。2%濃度...
接觸探頭測量彎曲和難測的表面 CP-1-1.3測量平面或球形樣品,結實耐用的不銹鋼單線圈。 CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射,對 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 鋼制單線圈外加PVC涂層,比較大可測厚度 15um。 CP-...
TS-140 TS-140結合了久經考驗的技術特點與優雅且對用戶友好的設計 這種中型動態隔振系統非常適合所有需要頂板上空間比TS-150更大的應用。 在公制(M6 x 25mm)或非公制網格上鉆孔的頂板可將各種設備安裝在隔離的桌面上。 ...
EVG?510晶圓鍵合機系統: 用于研發或小批量生產的晶圓鍵合系統-與大批量生產設備完全兼容。 特色: EVG510是一種高度靈活的晶圓鍵合系統,可以處理從碎片到200mm的基板尺寸。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,例如陽極,玻璃粉,焊...
支撐面測試 在系統運行時,推動支撐表面。 燈不亮,除了可能會大力推動。 如果可以輕松使燈點亮,則支撐表面剛度不足以獲得充分的性能。 確定支撐表面是否起反應對水平或垂直力施加更大的作用,并嘗試適當地使結構變硬。請注意,該系統將在任何支撐表面上運行,但會...
三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數分析: 表面三維輪廓儀可測量300余種2D、3D參數,無論加工的物件使用哪一種評定標準,都可以提供***的檢測結果作為評定依據,可輕松獲取被測物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數。 四、穩定性強,高重復...
EV Group開發了MLE?(無掩模曝光)技術,通過消 除與掩模相關的困難和成本,滿足了HVM世界中設計靈活性和蕞小開發周期的關鍵要求。 MLE?解決了多功能(但緩慢)的開發設備與快 速(但不靈活)的生產之間的干擾。它提供了可擴展的解決方案,可同時進行裸...
厚度測量產品:我們的膜厚測量產品可適用于各種應用。我們大部分的產品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網頁產品資訊或聯系我們的應用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協助。 單點厚度測量: 一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統。 測量 ...
輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數值的儀器,采用精密氣浮導軌為直線基準。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進行測試與檢驗的儀器,作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業的應用十分***。(來自網絡) 先進的輪廓儀集成...
EVG ? 620 NT特征: 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用...
FSM膜厚儀簡單介紹: FSM 128 厚度以及TSV和翹曲變形測試設備: 美國Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導體行業等高新行業提供各式精密的測量設備,客戶遍布全世界, 主要產...
EVG ? 101--先進的光刻膠處理系統 主要應用:研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工 EVG101光刻膠處理系統在單腔設計中執行研發類型的工藝,與EVG的自動化系統完全兼容。EVG101光刻膠處理機支持**/大300 mm的晶圓,并...
EVG的光刻機技術:EVG在光刻技術上的關鍵能力在于其掩模對準器的高產能,接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統的內部處理的相關知識。EVG的所有光刻設備平臺均支持300毫米的晶圓,可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統中,并配有用于從上到下的側面對...
EVG ? 770特征: 微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ? 簡單實施不同種類的大師 可變抗蝕劑分配模式 分配,壓印和脫模過程中的實時圖像 用于壓印和脫模的原位力控制 可選的光學...
F30包含的內容:集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點測量平臺FILMeasure 8反射率測量軟件Si 參考材料FILMeasure **軟件 (用于遠程數據分析) 額外的好處:每臺系統內建超過130種材料庫, 隨著不同應用更超過數百種應用工...