EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統。
用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術范圍達150m。這些系統以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了**
新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。江蘇納米壓印學校會用嗎
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG610附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
自動分離：不支持
工作印章制作：外部
微透鏡納米壓印服務為先EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。
SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創新。例如，SmartNIL提供了****的全區域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化，以支持下一代藥 物研究和醫學診斷設備的生產。此外，SmartNIL的***發展為制造具有比較高功能，**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。
特征：
體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術
經過生產驗證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對準能力
室溫過程
開放式材料平臺
具體說來就是，MOSFET能夠有效地產生電流流動，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創造出了所謂的“短溝道效應”區域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來更加“物理可控”的生產過程。（來自網絡。HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。
納米壓印光刻（NIL） -SmartNIL ®
用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝
介紹：
EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發和現場經驗進行了優化，以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。
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EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。高精密儀器納米壓印代理商
EV Group的一系列高精度熱壓花系統是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。江蘇納米壓印學校會用嗎
EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現實/混合現實玻璃制造中已就緒聯合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術創新孵化器，同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備**供應商EV集團（EVG）***宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領域的**技術集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓印（NIL）技術在下一代增強現實/混合現實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL?UV-NIL技術的EVG?HERCULES?。江蘇納米壓印學校會用嗎
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