氧化鉿是一種化學物質，分子式是HfO?。中文名氧化鉿，外文名:Hafnium(IV)oxide，中文別名氧化鉿(IV)，CAS:12055-23-1，EINECS:235-013-2，分子量:210.4888，毒理學數據主要的刺激性影響在皮膚上面：刺激皮膚和粘膜在眼睛上面：刺激的影響致敏作用：沒有已知的敏化現象。性質與穩定性常溫常壓下穩定避免的物料酸。合成方法當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通過其硫酸鹽或草酸鹽經灼燒而得。用途用于光譜分析及催化劑體系，耐熔材料。氧化鉿的生態學資料？廣東氧化鉿的安全風險
產品特點：白色粉末，有單斜、四方和立方三種晶體結構。密度分別為10.3，10.1和9.68g/cm3。熔點2780~2920K。沸點5400K。氧化鉿 性質熔點 2810 °C密度 9.68 g/mL at 25 °C(lit.)折射率 2.13 (1700 nm)熱膨脹系數5.8×10-6/℃。不溶于水、鹽酸和硝酸，可溶于濃硫酸和氟氫酸。由硫酸鉿、氯氧化鉿等化合物熱分解或水解制取。為生產金屬鉿和鉿合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化劑。產品應用：二氧化鉿(HfO?)是一種具有寬帶隙和高介電常數的陶瓷材料，近來在工業界特別是微電子領域被引起極度的關注，由于它可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO?)，以解決目前MOSFET中傳統SiO?/Si結構的發展的尺寸極限問題。山東氧化鉿近期價格氧化鉿的熔點是多少？
性質白色粉末，有單斜、四方和立方三種晶體結構。密度分別為10.3，10.1和10.43g/cm3。熔點2780~2920K。沸點5400K。熱膨脹系數5.8×10-6/℃。不溶于水、鹽酸和硝酸，可溶于濃硫酸和氟氫酸。由硫酸鉿、氯氧化鉿等化合物熱分解或水解制取。為生產金屬鉿和鉿合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化劑。
應用二氧化鉿(HfO?)是一種具有寬帶隙和高介電常數的陶瓷材料，近來在工業界特別是微電子領域被引起極度的關注，由于它**可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO?)，以解決目前MOSFET中傳統SiO?/Si結構的發展的尺寸極限問題。
二氧化鉿(HfO2)是鉿元素的一種氧化物，常溫常壓下為白色固體。基本信息中文名二氧化鉿英文名Hafnium(IV)oxide別稱氧化鉿(IV)化學式HfO2分子量210.49CAS登錄號12055-23-1熔點2758℃沸點5400℃水溶性難溶于水密度9.68g/cm3外觀白色固體應用遠紅外波段材料，應用二氧化鉿(HfO?)是一種具有寬帶隙和高介電常數的陶瓷材料，近來在工業界特別是微電子領域被引起極度的關注，由于它**可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO?)，以解決目前MOSFET中傳統SiO?/Si結構的發展的尺寸極限問題。氧化鉿的運輸注意事項？
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氧化鉿的安全性描述？廣東氧化鉿的安全風險
用途為生產金屬鉿和鉿合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化劑。生產方法當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通Chemicalbook過其硫酸鹽或草酸鹽經灼燒而得。安全信息安全說明22-24/25WGKGermany3TSCAYes海關編碼28259085應用領域氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產物，目前只有美、法等國家在生產核級鋯時產生有氧化鉿。中國早期就已經具備生產核級Zr，并生產少量氧化鉿的能力。但是產品數量稀少，價格昂貴。作為鉿的主要化學產品，通常用作光學鍍膜材料，很少量開始試用于高效集成電路，氧化鉿在**領域的應用尚待開發。氧化鉿在光學鍍膜領域的應用HfO2的熔點比較高、同時鉿原子的吸收截面較大Chemicalbook，捕獲中子的能力強，化學性質特別穩定，因此在原子能工業中具有非常大應用的價值。自上世紀以來，光學鍍膜得到了很快的發展，HfO2在光學方面的特性已經越來越適應光學鍍膜技術的要求，所以HfO2在鍍膜領域的應用也越來越***，特別是它對光有比較寬的透明波段，在光透過氧化鉿薄膜時，對光的吸收少，大部分通過折射透過薄膜，因此HfO2在光學鍍膜領域的應用越來越被重視。廣東氧化鉿的安全風險