珠海PCB光刻膠國產廠商

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優勢，適用于不同領域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，能確保 LCD 生產過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果。

半導體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中，比如一些特殊環境下的半導體加工或電路板制造。 珠海PCB光刻膠國產廠商LCD 光刻膠供應商哪家好?吉田半導體高分辨率+低 VOC 配方!

吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造光刻膠。

水性光刻膠（JT-1200）應用場景：環保要求高的電子元件（如醫療設備、汽車電子）的制造，以及柔性電路的生產。特點：以水為溶劑，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 環保標準。

水油兩用光刻膠（JT-2001/SR-3308）適用于混合工藝場景（如部分環節需水性顯影，部分需溶劑顯影），提升生產靈活性。 光刻膠廠家推薦吉田半導體，23 年研發經驗，全自動化生產保障品質!珠海PCB光刻膠

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1. 正性光刻膠（如 YK-300）
   應用場景：用于芯片的精細圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。
   特點：高分辨率（可達亞微米級），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。
2. 負性光刻膠（如 JT-1000）
   應用場景：用于功率半導體（如 MOSFET、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結構成型。
   特點：抗蝕刻能力強，適合復雜圖形的轉移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現優異。
3. 納米壓印光刻膠（JT-2000）
   應用場景：第三代半導體（GaN、SiC）芯片、量子點器件及微流控芯片的制造。特點：耐高溫（250℃）、耐酸堿，支持納米級精度圖案復制，降低芯片的制造成本。