河北大型試驗箱

來源: 發布時間:2021-11-05

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的整機尺寸、真空腔體尺寸。1.內膽尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架:2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃溫度波動度:0.5℃4.真空泵:油泵或無油真空泵。真空度:133pa,5.加熱方式:腔體下部及兩側加溫。加熱器為外置加熱板(防止一側加熱使的HMDS液進入箱體內不能完本轉成氣態)6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片;6寸晶圓片;8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設定來降低process時間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按產品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規降溫)。合肥真萍告訴您試驗箱如何去使用呢?河北大型試驗箱

超高真空烘箱廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術指標。1.工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度:1.0℃(空載);3.溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃河北大型試驗箱試驗箱哪家便宜?合肥真萍告訴您。

本篇介紹專業全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預處理系統的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的箱體結構。1.門與門框之間采用高性能密封材料及獨特的橡膠密封結構,密封、耐高溫性、抗老化性好。2.箱內風道采用雙循環系統,不銹鋼多翼式離心風輪及循環風道組成,置于箱體背部的電加熱器熱量通過側面風道向前排出,經過干燥物后再被背部的離心風輪吸入,形成合理的風道,能使熱空氣充分對流,使箱內溫度相當大限度達到均勻。提高了空氣流量加熱的能力,大幅改善了干燥箱的溫度均勻性。3.加熱器用不銹鋼電加熱管,升溫快,壽命長。試驗箱給社會帶來了什么好處?

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術指標。1.使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2.絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;3.加熱元件:石墨加熱棒;4.冷卻方式:氣冷+循環風冷降溫;5.控溫穩定度:2℃,具有PID參數自整定功能;6.爐膛溫度均勻度:5℃(恒溫1500℃);7.氣氛:可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%;8.極限真空:10-3torr級;9.抽氣速率:空載下,30min達到10-2torr10.升溫功率:170kW;11.升溫速率:15℃/min(空載);12.降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)試驗箱如何發揮重要作用?合肥真萍告訴您。高低溫快速試驗箱標準

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