廣東灰度光刻技術(shù)3D打印

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求?；叶裙饪碳夹g(shù)是一種非接觸、高精度的光刻技術(shù)，具有較高的靈活性和自由度。廣東灰度光刻技術(shù)3D打印

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。廣東灰度光刻技術(shù)3D打印更多灰度光刻技術(shù)詳情，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

這種設計策略不僅可用于改進現(xiàn)有的傳感器，該項目還旨在展示具有動態(tài)移動部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設計中，研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個微型轉(zhuǎn)子。從轉(zhuǎn)子上反射出的光脈沖可以被讀取，因此該傳感器可以被用于分析流速。FabryPérot傳感器進行溫度和折射率感應的測試裝置圖。圖片：資料來源見本文下方。通過動態(tài)可旋轉(zhuǎn)的3D微納加工概念，研究人員展示了智能設計如何改進現(xiàn)有的傳感器，并為整個新的微型化傳感器概念鋪平道路的能力。

Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度，實現(xiàn)自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構(gòu)圖，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次，即可實現(xiàn)具有光學級別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案灰度光刻技術(shù)可以應用于微電子、光電子、生物醫(yī)學等多個領域。廣東進口灰度光刻3D光刻

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Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的子公司，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù)，對智能手機、手持設備和醫(yī)療技術(shù)領域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場，他們已經(jīng)為全球的大學和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學，甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。廣東灰度光刻技術(shù)3D打印