下面為大家介紹一下高溫鐘罩爐的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)。一、爐體配置爐膛結(jié)構(gòu)：采用多晶莫來石材料砌筑而成有效尺寸：φ300320mm（DH）設(shè)備重量：約1200Kg外觀顏色：掛板采用高溫噴塑，顏色為江淮藍外形尺寸：W1300H2200D1510(mm)，不含(囪、指示燈）二、熱工系統(tǒng)1.額定溫度：1550℃2.限制溫度：1600℃3.加熱元件：U型硅鉬棒4.加熱功率：16kW5.空爐保溫功率≤8kW6.溫區(qū)個數(shù)：1個7.控溫點數(shù)：1點8.熱偶:B分度9.程序**精度：2℃（大于600℃,升溫速率≤3℃/min）10.控溫穩(wěn)定度：1℃(恒溫平臺)11.爐膛溫度均勻度：4℃（恒溫1500℃,2h）試驗箱如何發(fā)揮重要作用？合肥真萍告訴您。高低溫低壓試驗箱市面價
真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應(yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能：1.2內(nèi)建內(nèi)存，可儲存溫度/濕度，收集時間1~240分鐘可自行設(shè)定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設(shè)計，有助于內(nèi)部記錄追蹤并可支持數(shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng)：2.1可設(shè)定啟動警報的濕度值及條件，內(nèi)配蜂鳴器（90分貝）及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能：內(nèi)建校正功能，確保顯示準(zhǔn)確度。合肥做試驗箱合肥真萍告訴您使用試驗箱的便捷性。
通過調(diào)節(jié)試驗箱的溫度和濕度水平，研究人員可能會導(dǎo)致水分凝結(jié)。控制環(huán)境也允許測試人員將設(shè)備或產(chǎn)品暴露在"呼吸"過程中，即將空氣中的水分吸入測試對象，從而檢查防潮性能或吸濕后的功能水平。公司還使用由透明塑料制成，模擬沿海含鹽潮濕空氣的大氣。設(shè)計用于熱帶地區(qū)的設(shè)備或物體可能會接受或霉菌孢子培養(yǎng)，并結(jié)合濕熱進行測試。其他測試室可能會將測試對象暴露在熱真空環(huán)境中，與外層空間的大氣相似，離心機裝置、振動臺和其他機械裝置放置在試驗箱中，可以復(fù)制各種物理應(yīng)力。
超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍：常溫～+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度：1.0℃（空載）；3.溫度偏差：常壓溫度試驗：常溫～200℃時2℃200～300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃，100℃～200℃時5.0℃200℃～300℃時7.0℃試驗箱哪家便宜？合肥真萍告訴您。
中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數(shù)1個7.控溫點數(shù)2點8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度6℃（恒溫800℃,1h）二、氣氛系統(tǒng)1.爐膛氣氛2路氮氣，流量計量程為2～20L/min；每路流量可調(diào)節(jié)2.排氣系統(tǒng)在爐膛頂部設(shè)置一個排氣囪，用于廢氣排放，廢氣3.經(jīng)過水封清洗后進入大氣中，減少對環(huán)境污染4.氧含量配氧含量分析儀分析氧含量：5.高溫狀態(tài)氧含量≤10ppm+氣源氧含量6.低溫狀態(tài)氧含量≤50ppm+氣源氧含量上海哪家試驗箱廠家值得信賴？高低溫試驗箱廠家直銷價格
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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。高低溫低壓試驗箱市面價
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