EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統。
用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術，在100毫米范圍內。
EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。IQAligner納米壓印高性價比選擇
納米壓印微影技術可望優先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業LCD制程研發小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。IQAligner納米壓印高性價比選擇EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術。
納米壓印設備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。
納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上，從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
納米壓印應用三：連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。
”EV集團的技術研發與IP主管MarkusWimplinger說，“通過與供應鏈的關鍵企業的合作，例如DELO，我們能夠進一步提高效率，作為與工藝和設備**們一同研究并建立關鍵的新生產線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設備與光學材料的技術與市場**企業。雙方在將技術與工藝流程應用于大規模生產方面有可靠的經驗,”DELO的董事總經理RobertSaller說道。“通過合作，我們將提供自己獨特的技術，將晶圓級工藝技術應用于光學器件和光電器件制造中，EVG也成為我們***產品開發的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務。"晶圓級光學元件的應用解決方案EVG的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產品提供多種新型的光學傳感設備。主要的例子是：3D感應，飛行時間，結構光，生物特征身份認證，面部識別,虹膜掃描，光學指紋，頻譜檢測，環境感應與紅外線成像。其它應用領域包括汽車照明，光地毯，平視顯示器，車內感應，激光雷達，內窺鏡照相機醫學成像，眼科設備與手術機器人。EVG的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統。IQAligner納米壓印高性價比選擇
NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法。IQAligner納米壓印高性價比選擇
IQ Aligner UV-NIL特征：
用于光學元件的微成型應用
用于全場納米壓印應用
三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現出色的楔形補償
三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制
利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝
EVG專有的全自動浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合對準和紫外線粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型
曝光源：汞光源
對準：≤±0.5微米
自動分離：支持的
前處理：涂層：水坑點膠（可選）
迷你環境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
IQAligner納米壓印高性價比選擇
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