IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統
應用：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統
IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關的材料專業知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。
EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術。云南納米壓印技術支持
NIL300mmEV集團企業技術開發和知識產權總監MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創新孵化器，從而縮短創新光子器件和應用的開發周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值，不僅有助于新技術和新工藝的開發，還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學的新產品和新應用的300-mm制造奠定了基礎。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設備的關鍵組件，已經實現了批量生產。產品組合提供了高達，支持深度沉浸的AR/MR應用，視野更廣，高達65度。在與增強現實硬件制造商進行多年研發之后，肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產品在上市一年后便榮獲了享有盛譽的2019年SID顯示行業獎（SIDDisplayIndustryAward2019）。關于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關高科技材料領域的**國際技術集團。公司積累了超過130年的經驗，是眾多行業的創新合作伙伴。研究所納米壓印美元價EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。
SmartNIL技術簡介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
納米壓印光刻設備-處理結果：
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像
資料來源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項目SNM）
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結構50 μm
資料來源：EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源：EVG SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫學診斷設備生產。
SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。北京納米壓印研發生產
岱美儀器代理的SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創新。云南納米壓印技術支持
納米壓印應用三：連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
云南納米壓印技術支持
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