EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG610附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
自動分離：不支持
工作印章制作：外部
納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。山東納米壓印學校會用嗎
納米壓印光刻設備-處理結果：
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像
資料來源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項目SNM）
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結構50 μm
資料來源：EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源：EVG 山東納米壓印自動化測量納米壓印設備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。
EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統
分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。
EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和開發
NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。
歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設備的性能。
EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實現。
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結構。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫學診斷設備生產。微透鏡納米壓印技術服務
EVG紫外光納米壓印系統有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。山東納米壓印學校會用嗎
納米壓印光刻（NIL）技術
EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。
其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含：
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統型號包含：
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細的參數，請聯系我們岱美有限公司。
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岱美儀器技術服務（上海）有限公司發展規模團隊不斷壯大，現有一支專業技術團隊，各種專業設備齊全。在岱美儀器技術服務近多年發展歷史，公司旗下現有品牌岱美儀器技術服務等。我公司擁有強大的技術實力，多年來一直專注于磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的發展和創新，打造高指標產品和服務。岱美儀器技術服務（上海）有限公司主營業務涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，堅持“質量保證、良好服務、顧客滿意”的質量方針，贏得廣大客戶的支持和信賴。